pr光刻胶化学组分,光刻胶主要成分

pr光刻胶化学组分,光刻胶主要成分

一、光刻胶的组成光刻胶主要由以下几种组分组成：光敏剂、聚合物基体、溶剂和添加剂。1. 光敏剂：光敏剂是光刻胶的核心组分，它能够吸收特定波长的紫外光并发生化学反应。根据光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，是微制造领域最为关键的材料之一，在产业链的发展中起到非常重要的支撑作用。一、光刻胶概述1.1 光刻胶介绍光刻胶(Photoresis

ˇωˇ 树脂：光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质，是用来将其它材料聚合在一起的粘合剂。光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。感光剂：感光剂是光刻胶的核心部分，它对光形式的辐光刻胶又称光致抗蚀剂，在光刻工艺中，用作防腐蚀涂层材料。目前光刻胶广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，是电子制造领域关键材料。光刻胶由感光树脂、增感剂和溶剂三种主

-. 粒子束胶(Ion Beam PR) -. X射线胶( X-Ray PR) Table 2 Exampleof light source and their application 根据PR和光反应机理的不同，可以分为(1)(2): -. 光聚合Photo Polymerization: 负性光刻光刻胶的分类基本上可以分为正片和负片两大类。正性光刻胶正性光刻胶的基本聚合物是酚醛聚合物。在光刻胶中，聚合物相对不溶。当光刻胶暴露在紫外线下时，化学结构发生变化，光刻胶变

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体光刻胶的组成，光固化材料、光刻胶虽然都是由光引发剂(或光敏剂)、树脂、单体(或活性稀释剂)三种主要化学品原料和其他助剂组成的，但光刻胶需要使用专用的化学品原料。光刻胶是成像材

∩△∩ 光刻胶单体的种类很多，包括丙烯酸、苯乙烯、环氧、酚醛等。光引发剂是PR光刻胶的另一个重要成分，它可以使光刻胶单体发生聚合反应。光引发剂可以分为两类：辐射引发剂和化学引溶剂：是光刻胶中最大的组分，其目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没有影响。助剂：通常为专有化合物，主要用于改变光刻胶的特定化学性质二、适用领域集成电