目前国内半导体光刻胶进展较快的公司包括彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳 等。分产品看:g/i线光刻胶:国内北京科华、徐州博康、苏州瑞红已实现大规模量产, 已导入国内头...
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光刻机唯一上市公司苏大维格 |
中国3nm芯片测试成功,十大半导体设备制造商
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i线光刻胶与g线光刻胶属于半导体光刻胶。在光刻胶三大类产品中,半导体光刻胶技术壁垒最高;在半导体光刻胶产品中,g线/i线光刻胶技术壁垒较低,相较来说,g线光刻...
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