华为攻克8纳米光刻机,中国14纳米芯片光刻机

华为没有光刻机怎么研发芯片 2023-12-05 14:20 593 墨鱼

华为没有光刻机怎么研发芯片

华为攻克8纳米光刻机,中国14纳米芯片光刻机

众所周知，中国主导光刻机研发的是长春光机所，而长春光机所有多牛逼可以自行百度。所以目前看需要三方一起合作的，大概率是光刻机项目了。并且从华微电子4月份申请的专利来看，也是实锤华为光刻机另外，最尖端的、门槛最高的核心技术自己去攻克，而门槛稍弱的周边零部件则交给本土的小伙伴们来实现。再看这次的光刻机事件。华为的芯片设计能力再强，都必须交

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还有一个可能性，用美国科学家发明发明的利用空心玻璃毛细管束聚焦X射线的方法聚焦极紫外光，这种方法用在光刻机上就不再需要光学镜头。所以我个人认为，现在研发出8可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。目前，最先进的光刻机是荷兰ASM

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＼　＿　／结合科益宏源的专利，再把青年才俊天津大学张旭东的论文一看，如果没有工程上不可实现的问题，除了极紫外光刻机外，深紫外光刻机市场将发生大洗牌。1064纳米激光进必须承认，EUV光刻机是造成华为被卡脖子的重要原因——因为缺乏EUV光刻机，国内的芯片代工厂就无法提升到7纳米以上的制程；而国内芯片代工厂无法生产7纳米以上制程的芯片，就无法给华