国产5纳米芯片即将突破,华为5纳米生产线

国产5纳米芯片即将突破,华为5纳米生产线

中国已经可以量产14纳米，7纳米、5纳米先进工艺受限于EUV光刻机的供应一直备受阻碍，不过近期的诸多消息显示中国已找到解决阻碍先进工艺的途径，或许不久中国就能实现先进工艺的国产化而在这个环节上，我们的国产大厂通富微电就已经实现了5纳米技术，并且已经接到了来自美芯大厂超威的长期订单，一直持续到2026年，超威如果您没有听说过的话，那么AMD想必会有所耳

作为全球最大芯片需求市场，但是中国半导体产业却缺少“芯片之魂”，并不具备高精尖芯片的制作工艺技术。但是这一现象，随着5nm基础的突破或将迎来改变！国产品牌巨头实现了5nm芯片的锋利的！中科院5nm光刻技术取得突破，国产VCSEL光学芯片打破欧美垄断。技术领域的话语权决不能妥协。美国的禁令阻碍了我国的芯片发展。同时，也让大家意识到，想要有一些好的发展，还是

美芯巨头超威，还有英特尔以及高通等，都是希望老美能够解除芯片禁令的，毕竟我国是一个非常大的市场。我国现在也在光子芯片中有了不小的成就。也有消息称，会在明年的时候，正式建先了解一下我国芯片的发展史，从14纳米到7纳米，每一步走来都十分艰辛。中芯的14纳米技术已经相当成熟了，即将在年底试产的7纳米和台积电还有一定差距，由于咱们缺少EUV极紫外光刻机，不

(ˉ▽ˉ；) 从7nm到5nm芯片：中国国产光刻机的突破，从告别自嗨开始！现在说到光刻机，我国就有很多企业都在关注，虽然国际方面因为美国的关系，不敢进口给我国高端的机型，但是对自主研发这块与此同时，还有一个好消息已经传来，我国芯片厂商通富微电已经在芯粒技术上有所突破，已经制成了5nm芯片。这项成就已经走在国际的前沿，直接绕开了依靠EUV光刻机。美方芯片大厂AMD

╯▂╰ 此次取得研究突破的生产团队，为国产开槽设备能够在5nm制程工艺范围内实现良好的超薄工艺处理能力，为国产半导体设备市场积累更高端，更自主的产业化优势。国产半导体设备市场需要不就在近日外媒传出了消息，日企佳能的光刻机新工厂已经开建，正式投产之后将会诞生低成本的先进芯片制造设备，很有可能就是2021款的纳米压印光刻机的升级版，能够突破到14nm线宽的